中国台湾経済部がこのほど発表したデータによると、2024年TSMCは依然として中国台湾の発明専利出願件数のトップで、1412件の発明専利出願で9年連続1位となった。 しかし、出願件数は前年比28％減少し、これは主に企業の特許レイアウト戦略の考慮によるものだ。 ホンハイ・グループは、出願件数が前年比93％増と最も急成長した。
TSMCに続く発明専利出願の上位10社は、南亜科技（Nanya）466件、友達光電（AUO）425件、工業技術研究院（ITRI）356件、群創光電（Innolux）328件、英業達（Inventec）321件、瑞昱半導体（Realtek）309件、宏碁（Acer）277件、鴻海科技（Hon Hai）259件、MediaTek239件。
このうち、南亜科技（Nanya）と群創光電（Innolux）の出願件数が過去最高を記録し、発明特許出願件数トップ20では、12位のUMCが221件、13位の華邦電子（Winbond）が160件、17位の力積電（PSMC）が131件で、過去最高を記録した。
中国台湾の上位20社を分析すると、業種はウエハー製造、ストレージ、ディスプレイ、通信、鉄鋼などが含まれている。
出願件数の前年比の伸びを見ると、ストレージチップの分野であれ、ウェハー製造の分野であれ、メーカーが依然として特許のレイアウトに投資を続けていることが示されている。このうち、鴻海（Hon Hai）は93％増で最も目を引き、華邦電子（Winbond）が58％増、聯咏科技（NOVATEK）が39％増、力積電（PSMC）が32％増、南亜科技（Nanya）が25％増、UMCが22％増だった。
中国台湾における外資系企業の発明特許出願件数をみると、米国アプライドマテリアルズが950件で1位、韓国サムスン電子が894件で2位に、韓国Coupangが698件で3位に躍進し、そして、日本東京エレクトロンが661件、米国クアルコムが660件、日本日東電工が417件、オランダASMLが344件、日本信越化学工業が279件、米国パンリングループが276件、日本スカイライングループが253件だった。
このうち、17位のファーウェイは、184件の発明特許を出願し、過去最高を記録した。 智慧局が統計したデータによると、2020年から2024年までのファーウェイの特許出願件数は、それぞれ36件、64件、132件、152件、190件で、前年比で増加傾向を示しており、ファーウェイが中国台湾での特許レイアウトにかなり積極的であることがわかった。