3月27日、上海で開催されたSEMICON China 2025展示会において、中国国内半導体装置の新参者である新凱来（SiCARRIER）が6カテゴリー31の新製品を正式にリリースした。

具体的には、エピタキシャル成長装置EPI（峨眉山シリーズ）、原子層蒸着装置ALD（阿里山シリーズ）、物理蒸着装置PVD（普陀山シリーズ）、エッチング装置ETCH（武夷山シリーズ）、薄膜蒸着装置CVD（長白山シリーズ）、体積検査装置（岳麓山シリーズ、丹霞山シリーズ、蓬莱山シリーズ、莫干山シリーズ、天門山シリーズを含む、 沂蒙山シリーズ、赤壁山シリーズと電力試験用RATEシリーズを含む）。

新凱来工業機器有限公司のプロセス装置製品ラインの社長、杜立軍氏は、AI、インテリジェント運転などの産業は、計算力の需要とその成長が、半導体装置市場の着実な成長を推進していると述べた。 装置の新技術の進化の方向は、より高いエネルギー制御精度、より高速なハードウェア応答速度、より大きなプロセスウィンドウであり、RF /プラズマ分野を例として、7nmから3nmの進化プロセスでは、10倍のエネルギー制御精度の向上、10ミリ秒からハードウェア応答速度の改善1ミリ秒に短縮する時間遅延があると予想される。現在、SiCARRIER社は一世代プロセス、一世代材料、一世代装置という設計コンセプトに基づき、ニューケライはすでにエッチング製品、拡散製品、薄膜製品、物理測定製品、X線測定製品、光学測定製品など6つの主要カテゴリーのプロセスおよび測定装置を開発し、先端ロジックとストレージをカバーし、より高度なノードへの進化をサポートしている。

SiCARRIER社が発表した製品詳細の一部が以下となる。

（原文：https://www.icsmart.cn/90022/）