10月29日夜、中国国産半導体装置メーカーである中微半導体設備（上海）股份有限公司（以下「AMEC」）は2025年第3四半期報告書を発表した。それによると、AMECの2025年第1～3四半期の営業収入は80億6300万元（約1612億円）、前年同期比約46.40％増となった。、親会社に帰属する当期純利益は12億1100万元（約242億円）と前年同期比32.66％増加した。

内訳として、台四半期の営売上高は31億200万元（約620億円）で前年同期比50.62％増加となり、親会社に帰属する当期純利益は5億500万元（約101億円）と前年同期比27.50％増加した。

製品別の売上高を見ると、第1～3四半期のエッチング装置の売上高は61億100万元（約1220億円）と前年同期比約38.26％増加した。LPCVDやALDなどの薄膜装置の収入は4億300万元（約81億円）と前年同期比約1332.69％と急増した。

AMECは、先進ロジックおよびメモリデバイス製造における重要エッチング工程向けのハイエンド製品の出荷量が大幅に増加し、また、先進ロジックデバイスの中間工程における重要エッチング工程および先進メモリデバイス向けの超高アスペクト比エッチング工程が大規模量産を実現したと説明している。

CCP（容量結合プラズマ）エッチングに関して、同社は重要エッチングプロセス向けのシングルチャンバー型ダイエッチング製品が高い成長を維持しており、アスペクト比60:1の超高アスペクト比ダイエッチング装置は中国国内における標準設備となり、量産指標は着実に向上している。さらに、次世代のアスペクト比90:1の超高アスペクト比ダイエッチング装置はまもなく市場に投入される予定だ。ICP（誘導結合プラズマ）に関して、AMECは次世代ロジックおよびメモリ顧客向けのICPエッチング装置および化学的気相エッチング装置の開発が良好な進展を見せており、加工精度と再現性は単原子レベルに達している。

AMECが先進メモリデバイスおよびロジックデバイス向けに開発したLPCVD、ALDなどの各種薄膜装置は順調に市場に参入している。その装置性能は国際的な最先端レベルに達し、薄膜装置のカバー率（採用範囲）は拡大を続けているという。

また、同社のシリコンおよびシリコンゲルマニウムエピタキシー（EPI）装置は順調に顧客へ出荷され量産検証が行われており、顧客から高い評価を得ている。さらに、AMECはより多くの化合物半導体用エピタキシー装置の開発を進めており、既に顧客に出荷を開始し、量産検証テストを実施している。

（為替換算レート：1人民元=20円で計算）

（原文：https://www.icsmart.cn/98079/）