中国半導体メーカー「拓荆科技（Piotech）」、2026年上半期純利益が爆発的1324%増

8月20日夜、中国国内半導体薄膜堆積装置メーカーである拓荆科技（688072.SH）は2026年上半期報告書を開示し、極めて目覚ましい業績を発表した。先端プロセス分野における製品の継続的な技術的ブレイクスルーと量産化の拡大に支えられ、同社の上半期売上高と純利益は共に大幅な伸びを示し、特に親会社株主に帰属する純利益は前年同期比で1324%もの増加に達した。

決算報告書によると、2026年上半期、拓荆科技の売上高は29.13億元（約669.99億円）で前年同期比49.06%増、上場会社株主に帰属する純利益は13.43億元（約308.89億円）で同1324.10%増、非経常損益を除いた純利益は3.67億元で同861.92%増となった。同社の総資産は253.12億元（約5821.76億円）に達し、前年度末比27.69%増加した。

業績の爆発的成長について、拓荆科技は先端プロセス分野における製品展開と量産適用で顕著な成果を上げ、事業規模と収入が急速に拡大したことが主因と説明している。特に、中核製品であるPECVDシリーズ装置は先端メモリや先端ロジック分野におけるONO積層、ACHMシリーズプロセスなどの製品が量産段階に入り、ALDシリーズ装置は先端メモリ分野での量産規模が急拡大し、複数台のPE-ALD SiO₂、SiCOなどのプロセス装置が顧客検証を完了し、収益化を実現した。

注目すべきは、拓荆科技の上半期親会社株主に帰属する純利益の大幅増加は、非経常損益の大きな貢献によるものだという。決算報告書によると、同社の上半期における取引目的の金融資産から生じた公正価値の変動収益は前年同期比で約9.60億元（約220.8億円）増加した。

親会社に帰属する純利益の爆発的成長には約9.60億元（約220.8億円）の非経常損益の寄与分が含まれるものの、企業の主力事業の収益力をより反映する非経常損益を除いた純利益は、売上高の大幅増加と粗利率の向上に牽引され、861.92%の力強い成長を達成し、3.67億元（約84.41億円）に達した。

また、報告期間中、拓荆科技の売上原価の29.24%伸びは売上高の伸びを大幅に下回り、粗利率は前年同期比で約9ポイント上昇の41%となり、粗利益は前年同期比で約5.70億元（約131.1億円）増加しており、同社の収益力が著しく強化されたことを示している。

拓荆科技は現在PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、Flowable CVDなどの薄膜堆積装置製品ラインを形成し、三次元積層集積分野にも展開している。製品はロジックチップ、メモリチップ、先端パッケージなどの分野に広く応用されている。

三次元積層集積装置については、ウエハボンディング、ボイド（パッケージ内の空隙欠陥）修復などの新製品を継続的に展開し、複数の新規顧客を開拓する。製品は先進メモリ、先端ロジック、イメージセンサーなど多くの分野をカバーしている。

生産能力の拡充に関しては、拓荆科技の資金調達プロジェクトである「ハイエンド半導体装置産業化拠点建設プロジェクト」（瀋陽第2工場）の主要構造の棟上げが完了しており、2028年の稼働開始を予定している。計画総建築面積は15万平方メートルを超える。

研究開発投資では、上半期の研究開発費は4.23億元（約97.29億円）で前年同期比21.09%増、売上高の14.52%を占めておりとなり、そのうち研究開発費のキャピタリゼーション比率は18.72%だった。報告期末現在、研究開発要員は856人で従業員総数の41.78%を占め、累計特許出願数は2,245件に達している。

報告期末時点で、同社は累計3,800個以上（新型反応チャンバー480個超を含む）の反応チャンバを出荷数し、約100ロットの生産ラインに導入されている。顧客先生産ラインでの累計ウェハ処理枚数は約6億枚、アップタイム（Uptime）は90%超で、国際的な同種設備の水準に達している。同社は現在、受注残は好調で、年間を通じた納品と業績成長を強力に支える体制にあると表明している。

輝かしい業績を発表すると同時に、拓荆科技は全株主に対し10株当たり3.50元（約80.5円）（税込）の現金配当を予定しており、合計配当総額は約1.01億元（約23.23億円）となる見込みで、本案は株主総会の審議を行う必要がある。

（為替換算レート：1人民元=23円で計算）

（原文：https://www.icsmart.cn/140895/）