稷以科技12英寸IC前段工艺表面氧化/氮化设备JETKepler交付头部客户
2025-10-23半导体行业动态半导体中国国产化

10月21日,国产半导体设备厂商稷以科技宣布,其自主研发的12寸IC前段工艺表面氧化/氮化设备JETKepler正式交付行业头部客户。



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稷以科技称,此次交付意义重大,不仅是稷以在300mmIC领域的重要拓展,更是为行业客户提供大尺寸表面氧化/氮化设备解决方案的又一成功案例。



据介绍,稷以科技的12寸IC前段工艺表面氧化/氮化设备JETKepler主要应用于晶圆刻蚀及高温等离子表面氧化、氮化,可各向同性表面处理:氧化/氮化/还原/提高薄膜密度/去除刻蚀残留/降低IC Rs。JETKepler具有高密度低损伤等离子系统、极佳的温度均匀性、更高的产能和更低的拥有和运营成本。



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稷以科技表示,将以此次交付为全新起点,持续深耕技术研发,不断优化产品性能,深化技术创新与产业链布局,致力于攻克前沿技术瓶颈,为中国半导体产业发展提供核心支撑。






(原文:https://www.icsmart.cn/97789/)

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